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中芯世界概述N+1节点投产方案较14nm工艺更具本钱优势

放大字体  缩小字体 2020-03-24 16:48:56 作者:责任编辑NO。杜一帆0322 浏览次数:2819    

上一年,中芯世界表明将在四季度敞开根据 14nm FinFET 制程的量产芯片。一起,该公司也在尽力开发下一代首要节点(N+1),声称具有可比美 7nm 工艺的部分特性。与中芯世界自家的 14nm 制程比较,N+1 可在功能提高 20% 的一起下降 57% 的功耗、并将逻辑面积减少了 63% 。

材料图(来自:SMIC)

但实际上,中芯世界表明 N+1 并不等同于 7nm 技能。虽然新工艺可让 SoC 变得更小、更节能,但 N+1 带来的功能提高,仍无法与 7nm 竞品做到势均力敌。

有鉴于此,中芯世界将 N+1 定坐落更具本钱吸引力的芯片制作技能。该公司讲话人称:N+1 的方针是低本钱运用,与 7nm 比较,其优势在 10% 左右。

此外,中芯世界的 N+1 工艺并未运用极紫外光刻(EUVL),因而该晶圆厂无需从 ASML 购买其它贵重的设备。

这并不阐明该公司没有考虑过 EUV,其确有取得 EUV 步进扫描体系,但有报导称因美方施压而没有装置,导致中芯世界只得比及 N+2 工艺时采用上 EUV 。

假如一切顺利,中芯世界有望在 2020 年 4 季度开端 N+1 制程的危险试产,并于 2021 或 2022 年转入大批量出产。

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